大盤點：
理解一個複雜系統時，將其分為主要的兩大部分，即「Transfer module」和「Process chamber」是一個較容易學習的方法。這種分類有助於從整體上把握系統，並深入了解每個部分的功能和交互作用。讓我們進一步討論這兩個模塊：
- Transfer Module（傳送模組）：
- 功能： 傳輸模塊通常是將材料、樣品或工件從一個區域轉移到另一個區域的部分。它在整個製程中起著橋梁的作用，確保有效的材料運輸。
- 特點： 傳輸模塊可能包括機械手臂、輸送帶、機構和自動控制系統。這些部分協同工作，以確保順利的材料流動。
- Process Chamber（反應室）：
- 功能： 反應室是實際進行製程或處理的地方。這可能包括化學反應、蝕刻、鍍膜、熱處理或其他製程。這是系統中實現目標的地方。
- 特點： 反應室通常包含各種儀器、設備和監測系統，以確保製程的控制和監控。這涉及高真空、高溫、特殊氣氛或其他特殊條件。
Chamber （PM），製程反應室
LAM製程反應室介紹（從Kiyo CX系列，EX，FX到GX系列）
LAM Research Corporation（LAM研究公司）是半導體製造設備領域的領先供應商，其製程室系列自Kiyo CX系列不斷演進到現今的GX系列，為半導體行業提供先進的技術和解決方案。
Kiyo CX系列：
Kiyo CX系列製程室是LAM Research的開創性產品之一。該系列擁有卓越的技術，確保在先進半導體製程中發揮著重要作用，為客戶提供高效、穩定和可靠的製程解決方案。
EX系列：
EX系列製程室是在Kiyo CX基礎上的進一步創新。它引入了更先進的技術，提供更大的生產能力和更靈活的操作選項。EX製程室旨在滿足半導體製造中不斷增長的需求，為客戶提供卓越的製程性能。
FX系列：
FX系列製程室進一步拓展了LAM Research的製程技術。它注重提升製程速度、優化均勻性並引入更智能的控制系統。FX製程室適用於高度要求的半導體製程，為製造商提供更具競爭力的解決方案。
GX系列：
LAM Research的製程室系列的不斷演進代表著對技術創新和卓越品質的不懈追求，確保客戶在快速變化的半導體環境中保持競爭力。
Gasbox
圖 Integrated Gas box
RF power (射頻功率）
射頻功率在許多高頻（13.56MHz）電子應用中發揮著關鍵作用。主要有兩個的射頻功率迴路
TCP RF Loop（TCP射頻迴路）
- TCP Generator（TCP發生器）
- TCP Match（TCP匹配器）
Bias RF Loop（偏壓射頻迴路）
- Bias Generator（偏壓發生器）
- Bias Match（偏壓匹配器）
這些射頻功率迴路的元件在高頻電子裝置中扮演著關鍵角色，確保系統的穩定性和性能。了解並精確控制這些迴路是實現高頻電子應用成功運作的關鍵一步。
Temperature
1. ESC four zone temp
l Inner
l Mid-inner
l Mid-outer
l Outer
2. Heater channel
l Bias electro housing temperature
l chamber wall Front right
l chamber wall Front left,
l chamber wall Rear right
l chamber wall Rear left.
l Throttle valve temp
3. TCW / TCR : setting 120
Pressure
l CM1: process manometer
l CM2: chamber manometer
l CM3: foreline manometer
l Back side Helium pressure: UPC
l TM pressure:
l Airlock pressure: hasting gauge
